На российском форуме «Микроэлектроника 2025» подписали договор на поставку первой отечественной установки совмещения и проекционного экспонирования (фотолитографа) с разрешением 350 нм. Договор заключен между Зеленоградским нанотехнологическим центром (ЗНТЦ) и «Отраслевыми решениями» (входит в группу компаний «Элемент»).
Сегодня мы закладываем фундамент нового этапа развития отечественной микроэлектроники. В ЗНТЦ завершена разработка установки совмещения и проекционного экспонирования с разрешением 350 нм, ее параметры подтверждены на производственной площадке, осуществляется переход к серийному производству. Это первый шаг в создании линейки российских литографов. Создан серьезный задел, который позволяет нам перейти к разработке полностью локализованных установок с нормами 90 нм.
Фотолитограф ЗНТЦ предназначен для проекционного переноса изображения фотошаблона на полупроводниковую пластину и мультипликации его на пластине при изготовлении сверхбольшой интегральной схемы с проектной топологической нормой 350 нм. Договор включает поставку, монтаж и пусконаладку оборудования.
Эта установка создана в рамках реализации одного из первых проектов государственной программы по локализации технологической цепочки производства микросхем с топологическими нормами 350-130 нм. Она будет использоваться для модернизации существующих и оснащения новых микроэлектронных производств. Разработка и производство фотолитографа осуществлены в партнерстве с белорусским ОАО «Планар».
Ранее www1.ru сообщал, что первый в России фотолитограф с разрешением 350 нанометров разработали в Зеленограде.
Читать материалы по теме:
- Прорыв в оптоэлектронике: уникальный литограф разработали в МФТИ
- В России создадут литограф, способный производить чипы на 130 наноментров
- Новая веха в оптоэлектронике: российский литограф на 193 нанометра могут создать в России через пару лет
Не пропускайте наши новостиДобавьте сайт в предпочитаемые источники, чтобы видеть нас чащеДобавить в Google
