В ближайшие два года в России может появиться литографический сканер с длиной волны 193 нанометра, предназначенный для производства современных микроэлектронных чипов. Об этом сообщил президент Российской академии наук Геннадий Красников.
Сейчас уже испытывается наш сканер на длине волны 248 нанометров. Идут работы по новому сканеру на длине волны 193 нанометра, который будет предназначен на 90 нанометров и ниже. Кстати, эта длина волны очень перспективная, потому что на ней делаются и пятинанометровые микросхемы.
По словам Геннадия Красникова, сканер на длине волны 193 нанометра появится через два года.
Литографические сканеры предназначены для создания микросхем. Подобное оборудование производят лишь несколько крупных компаний (нидерландская ASML, японские Canon и Nikon). Хотя чипы, созданные с использованием технологий на основе длины волны 350 нанометров, считаются устаревшими, они все еще находят применение в различных отраслях, включая автопром, энергетику и телекоммуникации.
Разработка нового литографического сканера в России может значительно повысить конкурентоспособность отечественной микроэлектронной промышленности и снизить зависимость от зарубежных технологий.
Ранее www1.ru сообщал, что первый российский литограф на 350 нанометров вышел на испытания.
Читать материалы по теме:
В России создадут литограф, способный производить чипы на 130 наноментров
Первый в России фотолитограф с разрешением 350 нанометров разработали в Зеленограде
Первый российский литограф на 350 нанометров вышел на испытания
