Специалисты Зеленоградского нанотехнологического центра (ЗНТЦ) вместе с коллегами из «Планара» (Белоруссия) разработали первый в России фотолитограф с топологией 350 нм. Это ключевое оборудование для производства микросхем, сообщила пресс-служба центра.
Новая совместная разработка имеет ряд преимуществ: существенно увеличена площадь рабочего поля – 22х22 мм по сравнению с предшествующей – 3,2х3,2 мм, на ступень больше максимальный диаметр обрабатываемых пластин – 200 мм вместо 150 мм.
Ковалев заявил, что в других странах для производства литографов в качестве источника излучения используют ртутную лампу. Российские инженеры применили твердотельный лазер, который отличается повышенной мощностью, долговечностью и более узким спектром, добавил он.
В ЗНТЦ также разрабатывают установку совмещения и проекционного экспонирования с разрешением 130 нм. Работу завершат в 2026 году.
Читайте еще по теме:
Идут на рекорды: Тутаевский моторный завод выпустил 25-тысячную автомобильную редукторную лебёдку
Импортозамещение идет полным ходом: установку для создания чипов разработали в НИИТМ
История редактирования комментария