Россия создала два опытных литографа 150 нм: уступают TSMC и Intel в 75 раз
ЗНТЦ проведёт испытания в течение 4 месяцев
ЗНТЦ
Прорыв в проектировании микросхем: ЗНТЦ и «Прогресс» разработают чиплеты на кремниевом интерпозере
Новый подход позволяет снизить стоимость производства и ускорить вывод изделий на рынок
Отечественный литограф пошёл в серию: ЗНТЦ замахнулся на 130-нм технологию
В разработке также находится электронно-лучевое оборудование с разрешением 150 нм
300 млн рублей на микросхемы: выпуск электроники на нитриде галлия начал ЗНТЦ в Москве
Комплекс будет выпускать продукцию для 5G, авиации и электротранспорта
Фундамент для развития отечественной электроники: первый фотолитограф поставят заказчику
Установка обладает разрешением в 350 нм
С разрешением 350 нм: первый российский литограф разработали в ЗНТЦ
В качестве источника излучения использовали твердотельный лазер