La fábrica "Micron" de Zelenograd recibirá 1,56 mil millones de rublos para desarrollar una instalación para medir la desalineación de capas topológicas en obleas de silicio; el equipo es necesario para la producción de microcircuitos. El cliente es el Ministerio de Industria y Comercio. El código del proyecto es "Luchnik", que en español coincide completamente con el nombre del análogo estadounidense ARCHER 10 XT de KLA TENCOR, que debe ser reemplazado, informa CNews.

Según las especificaciones técnicas, la nueva instalación debe medir automáticamente la desalineación de capas en obleas de hasta 200 mm de diámetro con normas de diseño de hasta 130 nm. El rendimiento es de al menos 75 obleas por hora. El trabajo debe completarse antes del 31 de julio de 2029. Los expertos coinciden en que los plazos de desarrollo son muy ajustados. Para llegar a tiempo antes de 2029, se necesita una base científica preparada y un trabajo impecable con el suministro de componentes.

La instalación estadounidense ARCHER es un controlador de alta precisión en la producción de microcircuitos. Al crear chips, los dibujos de los futuros transistores se aplican en capas a una oblea de silicio, y cada nueva capa debe coincidir perfectamente con la anterior; incluso un desplazamiento de varios nanómetros (miles de veces más delgado que un cabello) hace que el chip sea defectuoso. ARCHER, utilizando óptica e un interferómetro, escanea la oblea, encuentra marcas de alineación especiales y verifica si las capas se han movido. Si hay un error, la instalación proporciona datos para corregir el proceso en la siguiente etapa. En pocas palabras, es un "microscopio-controlador" que monitorea la precisión de la superposición de capas en la producción de microcircuitos.

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