En la Universidad Estatal de Novosibirsk (NSU) se ha aplicado una nueva tecnología para la creación de nanoestructuras destinadas a la producción de semiconductores. Esta se distingue por su alta eficiencia en el procesamiento de la superficie de los materiales, con un daño mínimo a su estructura. Así lo informó el servicio de prensa del Ministerio de Ciencia y Educación Superior de la Federación Rusa.
Para obtener las nanoestructuras, los especialistas utilizaron haces de iones-clúster de chorro de gas. Este enfoque es más eficaz que el método de impulsos. Permite formar, pulir y pulverizar nanoestructuras de forma cualitativa.
Para un procesamiento más homogéneo de la superficie, movimos la muestra en una dirección, y para una formación más eficaz de nanoestructuras, el haz incidía sobre su superficie en un ángulo de 60 grados, que consideramos óptimo. Durante las investigaciones, observamos una закономерность: cuanto mayor es el número de átomos que inciden sobre la muestra en este ángulo, mayores y más anchas se vuelven las ondas en su superficie.
La estructura ondulada proporciona una mejor conductividad del material para su futura aplicación. Las nanoestructuras son demandadas para su uso en plasmónica, telecomunicaciones, optoelectrónica, técnica electrónica, energía solar, creación de sensores de alta sensibilidad y en otros ámbitos.
Anteriormente, www1.ru informó de que Rusia ha desarrollado un nuevo material para dispositivos optoelectrónicos de rango IR cercano en silicio.
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