В Санкт-Петербургском политехническом университете Петра Великого (СПбПУ) разработали отечественную установку вакуумного магнетронного осаждения. Об этом сообщила пресс-служба Минобрнауки РФ.
Новая установка позволяет наносить самые тонкие покрытия из различных материалов путем распыления атомов. Такие покрытия используются в микроэлектронике, оптоэлектронике и фотовольтаике.
Лабораторная установка, разработанная инженерами НЦМУ СПбПУ, предназначена для осаждения различных материалов на подложки кремния, карбида кремния, алмаза, кварца путем распыления атомов мишени. Основное назначение новой установки - осаждение металлов заданной толщины от 10 нм до десятков мкм на подложки, которые используются в полупроводниковой промышленности.
В процессе вакуумного магнетронного осаждения ключевую роль играет мишень — источник материала для покрытия. При подаче напряжения на магнитную систему магнетрон в атмосфере инертного газа генерирует плазму. Освобожденные за счет ионов атомы осаждаются на поверхности объекта, образуя тончайший слой.
Наша установка может заменить широко используемые комплексы иностранного производства. Также с ее помощью можно модернизировать оборудование на мелкосерийных предприятиях, которое эксплуатируется еще с советского периода, в очень короткие сроки: 3-4 месяца при поставке базового вакуумного магнетрона и 9 месяцев в случае разработки магнетрона под более сложные требования.
Новая установка распыляет не только ферромагнитные металлы, но и материалы с более сложными свойствами. Оксид этого материала применяется при создании солнечных элементов в качестве просветляющих покрытий и в приложениях, требующих прозрачных проводящих контактов.
Ранее www1.ru сообщал, что в России разработана новая установка для проверки качества композитов в авиации и космосе.
Читать материалы по теме:
Быстрее на десятки процентов: российские учёные придумали, как ускорить микропроцессоры
История редактирования комментария