Минпромторг ищет подрядчика для создания ключевого инструмента в производстве микросхем — системы автоматизированного проектирования (САПР), которая будет готовить фотошаблоны для техпроцесса 90 нм и выше. На проект готовы направить 943 миллиона рублей.

Конкурс объявлен 28 апреля 2026 года, завершить работы планируют к 1 ноября 2028-го.

Речь идёт о критически важной части всей цепочки. Без такого софта невозможно превратить цифровую схему чипа в реальные фотошаблоны, по которым затем изготавливаются микросхемы.

До 2022 года этот этап в России закрывали зарубежные решения — в первую очередь Cadence и Synopsys. После санкций доступ к ним оказался ограничен, и теперь задачу пытаются решить за счёт собственных разработок.

От будущей системы ждут базовые возможности: загрузку и проверку топологии, визуальный контроль, формирование эскизов и сборку фотошаблонов. При этом софт должен работать полностью автономно — без подключения к интернету.

Отдельное требование — совместимость с оборудованием. Программу планируют адаптировать под белорусские лазерные генераторы фотошаблонов — от серий ЭМ-5189/5289 до более сложных DUV-систем и установок с пространственно-световой модуляцией. Фактически речь идёт о попытке собрать замкнутую технологическую цепочку без внешних зависимостей.

Проект вписывается в более масштабную стратегию. Ещё в 2024 году Минпромторг представил дорожную карту развития САПР до 2030 года с бюджетом 54,6 миллиарда рублей.

К этому сроку планируется создать около 100 платформ САПР, а продажи такого софта могут достигнуть 2,6 тысячи единиц. Общая выручка оценивается в 7,2 миллиарда рублей, из которых половина придётся на решения для проектирования микросхем.

Следующий этап — более сложные технологии. После 2030 года планируется переход к разработке САПР для чипов по техпроцессу 28 нм.