Especialistas de la empresa "Tecnologías Ópticas" del Akademgorodok de Novosibirsk han desarrollado el primer sistema láser en Rusia para la impresión ultravioleta de fotomáscaras, utilizadas en la producción de microchips.
El complejo creado está diseñado para la litografía láser, una tecnología que permite aplicar el diseño de un microchip a la superficie de una placa de silicio mediante radiación UV enfocada. Según los desarrolladores, más del 75% de las fotomáscaras de alta resolución en el mundo se crean utilizando este método.
El sistema ruso reemplaza a los láseres estadounidenses especializados de la empresa Coherent, que operan a una longitud de onda de 257 nanómetros. Anteriormente no existían análogos nacionales para estas fuentes de radiación. El desarrollo está orientado precisamente a esta longitud de onda, ya que se utiliza en la gran mayoría de las instalaciones y fotomateriales.
El sistema incluye un láser con una potencia de 10 a 30 milivatios y un amplificador de fibra que aumenta la radiación hasta 15 vatios. La energía se amplifica adicionalmente dentro de un cristal especial que convierte la frecuencia de la luz. Esto asegura un funcionamiento estable de la instalación y una alta calidad de la aplicación del diseño en la fotomáscara.
Según los desarrolladores, una característica importante del prototipo es su eficiencia energética: el sistema consume solo 1 vatio, que es incluso menos que un hervidor eléctrico doméstico (que consume en promedio de 1000 a 2500 vatios). Esto permite reducir los costos cuando se utiliza el equipo en masa en las empresas industriales.
Actualmente, el modelo de preproducción está siendo probado en la empresa bielorrusa "Planar", que se especializa en la producción de microchips de amplia aplicación. Allí ya se utilizan otros productos de la empresa de Novosibirsk.
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