Специалисты компании «Оптические технологии» из новосибирского Академпарка разработали первую в России лазерную систему для ультрафиолетовой печати фотошаблонов, используемых в производстве микросхем.
Созданный комплекс предназначен для лазерной литографии — технологии, позволяющей наносить рисунок микросхемы на поверхность кремниевой пластины с помощью сфокусированного УФ-излучения. По данным разработчиков, более 75% фотошаблонов высокого разрешения в мире создаются именно с применением этого метода.
Российская система заменяет специализированные американские лазеры компании Coherent, работающие на длине волны 257 нанометров. Отечественных аналогов этим источникам излучения ранее не существовало. Разработка ориентирована именно на эту длину волны, поскольку она используется в подавляющем большинстве установок и фотоматериалов.
В состав системы входит лазер мощностью 10–30 милливатт и волоконный усилитель, увеличивающий излучение до 15 ватт. Энергия дополнительно усиливается внутри специального кристалла, преобразующего частоту света. Это обеспечивает стабильную работу установки и высокое качество нанесения рисунка на фотошаблон.
По словам разработчиков, важной особенностью прототипа стала его энергоэффективность — система потребляет всего 1 ватт, что меньше даже бытового электрочайника (в среднем потребляет от 1000 до 2500 ватт). Это позволяет снизить издержки при массовом использовании оборудования на промышленных предприятиях.
В настоящее время предсерийный образец проходит испытания на белорусском предприятии «Планар», специализирующемся на выпуске микросхем широкого применения. Там уже используются и другие изделия новосибирской компании.
Читайте ещё по теме:
Микролазеры для интеграции в микросхемы разработали учёные из НИУ ВШЭ Петербурга
В России произвели первые лазерные станки для высокоточной обработки печатных плат
Российские учёные создали революционную систему защиты информации с помощью лазера
