Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) вывел на комплексные испытания два опытных образца установки электронно-лучевой литографии с проектной нормой 150 нм. Тесты оборудования продлятся около четырёх месяцев.
Установка позволяет напрямую формировать рисунок микросхем на кремниевых подложках, а также изготавливать фотошаблоны без использования масок. Такой подход востребован при разработке прототипов, проведении НИОКР и выпуске небольших партий специализированных микросхем.
При этом ведущие мировые чипмейкеры (Intel, TSMC) уже массово выпускают процессоры по топологии 1,8–2 нм, используя серийные сканеры нидерландской компании ASML.
В целом отечественный 150-нанометровый литограф уступает передовым коммерческим стандартам ровно в 75 раз по линейному размеру элементов, а по площади элементов (плотности транзисторов) — в 5625 раз. Российская установка соответствует уровню индустрии начала 2000-х годов — эпохе процессоров Pentium 4.
Первый вице-премьер Денис Мантуров констатировал, что Россия вернулась в элиту мировой микроэлектроники спустя 45 лет. По его словам, литограф на 130 нм освоят до конца 2026 года.
Читайте ещё материалы по теме:
- Высотой в один этаж: крупнейшую в России военную печатную плату изготовили в Йошкар-Оле
- Первый в России: в индустриальном парке «Руднево» появится завод по серийному производству печатных плат
- Российские печатные платы и литограф топологией 200 нанометров: «Бештау» и «РостИнтех» создают новое производство