Российская команда под руководством Евгения Гиваргизова при поддержке Национальной технологической инициативы подготовила проект электронного литографа, который должен сократить обработку кремниевой пластины с полутора-двух недель до пяти–семи минут. Ускорить процесс примерно в 3000 раз позволит множество электронных лучей, работающих одновременно вместо одного.
В основе установки лежит мультикатод — массив независимых источников электронов на общей подложке. Зарубежные системы обычно расщепляют один луч сложной конструкцией из зеркал и затворов. Российский подход должен сделать оборудование дешевле, экономичнее и менее требовательным к инфраструктуре.
Саму технологию мультикатода уже создали и испытали, однако литограф пока существует только в виде проекта. Первый опытный образец планируют собрать примерно через три года. Инженерам удалось получить источники пучков с радиусом вершины 1,5–2 нанометра — разработчики называют это одним из лучших мировых результатов.
Установку рассчитывают применять для выпуска микросхем по нормам от 350 до нескольких нанометров. При успешной реализации она сможет ускорить производство чипов и снизить зависимость России от зарубежного оборудования, хотя итоговое разрешение будет зависеть и от используемых фоторезистов.
Читайте ещё материалы по теме:
- Россия создала два опытных литографа 150 нм: уступают TSMC и Intel в 75 раз
- Отечественный литограф пошёл в серию: ЗНТЦ замахнулся на 130-нм технологию
- Российский литограф для выпуска чипов шагнёт с 350 нм сразу до 130 нм