Россия совершает новый шаг в микроэлектронном машиностроении: в 2027 году планируется освоить выпуск полностью отечественного литографа на 130 нанометров. О перспективах отрасли в интервью «Коммерсанту» в преддверии ПМЭФ рассказал первый вице-премьер Денис Мантуров, напомнив, что в прошлом году был создан литограф на 350 нм.
По словам первого вице-премьера, сегодня российские предприятия серийно выпускают микросхемы по технологиям 300, 200, 130 и 90 нанометров. Однако ключевая задача — развивать собственное микроэлектронное машиностроение, включая литографы и оборудование для обработки пластин, чтобы снизить критическую зависимость от зарубежных поставщиков, доступ к которым остается ограниченным. Выпущенный ранее литограф на 350 нанометров стал полностью отечественной разработкой.
В правительстве готовится стратегия новой Объединенной микроэлектронной компании, которую планируется утвердить до конца года. Развитие микроэлектроники рассматривается как одно из ключевых направлений достижения технологического суверенитета.
Что такое литограф и почему шаг к 130 нм важен
Литограф — это ключевая установка в производстве микросхем, которая с помощью света переносит рисунок будущей схемы на кремниевую пластину. Чем тоньше технологический узел, тем больше транзисторов можно разместить на кристалле, что напрямую влияет на производительность и энергоэффективность чипа.
Собственный литограф на 130 нанометров — это переход от базового уровня к промышленно значимому: такая топология покрывает массовый сегмент микроэлектроники, включая автомобильную электронику, промышленные контроллеры и силовую электронику. После освоения 350 нм это реальный шаг к технологической независимости в критическом оборудовании, доступ к которому извне остаётся закрытым.
Читайте ещё материалы по теме:
