Отечественный литограф пошёл в серию: ЗНТЦ замахнулся на 130-нм технологию

В разработке также находится электронно-лучевое оборудование с разрешением 150 нм

Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) начал продажи первого отечественного литографа с разрешением 350 нм. Об этом в интервью ежегоднику «Живая электроника России — 2026» сообщил генеральный директор предприятия Анатолий Ковалёв.

Развитием электронного машиностроения ЗНТЦ занимается с 2021 года. С 2027 года компания планирует запустить производство установки совмещения и проекционного экспонирования с разрешением 130 нм. Кроме того, в настоящее время в разработке находятся установка электронно-лучевой литографии с разрешением 150 нм и установка контроля привносимой дефектности поверхности полупроводниковых пластин с обнаружительной способностью 45 нм.

Также начата разработка кластерной линии фотолитографии для обработки слоёв фоторезиста в субмикронной DUV-литографии при изготовлении СБИС на пластинах диаметром 200 мм.

Литографы используются для создания топологии микросхем — одного из ключевых этапов в производстве чипов. Собственное производство литографического оборудования позволяет снизить зависимость от импорта и укрепить технологический суверенитет страны.

Читайте ещё материалы по теме: