Научно-исследовательский институт точной механики (НИИТМ, входит в ГК «Элемент») изготовил и поставил заказчику установку эпитаксии из твёрдого источника «Эписэнд ТМ». Сфера применения установки — производство полупроводниковых приборов — основы для создания чипов и силовой электроники.
Оборудование нужно для выращивания эпитаксиальных структур и предназначено для нанесения сверхтолстых слоёв поликристаллического кремния методом «сэндвич»-эпитаксии. Установка обеспечивает индукционный ВЧ-нагрев до 1300 градусов Цельсия и отличается высокой производительностью за счёт одновременной обработки до четырёх пластин диаметром 100 мм. Модернизированная двухпозиционная система загрузки рассчитана на две лодочки с графитовыми платформами.
Как отмечают в компании, разработка собственного оборудования для эпитаксии — важный шаг на пути к технологической независимости российской микроэлектроники. НИИТМ ведёт разработки в рамках комплексной программы «Развитие электронного машиностроения до 2030 года».
В условиях, когда подобное оборудование производят лишь несколько стран мира, а поставки в Россию ограничены санкциями, создание отечественных установок снижает зависимость от зарубежных поставщиков. В ГК «Элемент» намерены заместить собственными разработками до 70% критически важного оборудования, где количество поставщиков ограничено 1–2 производителями из недружественных стран.
Читайте ещё материалы по теме:
- Почти 2 миллиарда рублей на замену американского и европейского оборудования для чипов выделил Минпромторг
- Россия на пути к микроэлектронной независимости: создана установка для роста кристаллов полупроводников
- Россия к 2032 году оснастит свои заводы по производству чипов сотнями отечественных установок